به گزارش خبرگزاری صدا و سیما به نقل از وبگاه فناوری نانو، یک شرکت ژاپنی با همکاری مرکز نوآوری بلژیک در حال کار روی تولید تجاری این ماسکها هستند که یکی از مولفههای اصلی سامانههای لیتوگرافی نیمههادی با پرتوهای فرابنفش شدید است.
در این طرح مشترک قرار است روی غشاهای شفاف و نازک تمرکز شود که نوعی ماسک در برابر آلودگی است. مشارکت راهبردی این دوشرکت به گونهای برنامهریزی شده است که ماسکهای مبتنی بر نانولولههای کربنی در بازه زمانی سالهای ۲۰۲۵ تا ۲۰۲۶ به مرحله تجاریسازی برسد.
با افزایش نیاز به ایجاد محصولاتی با ابعاد کوچکتر و متراکمتر در مدارهای الکترونیکی، لیتوگرافی به شدت مورد توجه شرکتها قرار گرفته است.
بازار تجهیزات لیتوگرافی تا حد زیادی در اختیار یک شرکت هلندی است که ماشینآلات پیشرفته و پیچیدهای را تولید و به فروش میرساند. این دستگاهها پرتوهای فرابنفش ۱۳٫۲ نانومتری تولید میکنند که این کار با استفاده ازشلیک ضربات مکرر لیزر CO ۲ بر روی قطرات قلع مذاب انجام و باعث ایجاد پلاسمایی میشود که تابش فرابنفش شدید ایجاد میکند.
اندازه بسیار کوچک از ویژگیهای ساختارهای ایجاد شده توسط این روش است، هر چند که آلودگی میتواند مشکلاتی برای کاربر ایجاد کند و هزینه گزافی را به تولیدکنندگان تحمیل کند در نتیجه نیاز به ماسکهای محافظ وجود دارد.
در این طرح مشترک، شرکت ژپنی روی ارائه نسل جدید ماسکهای حاوی نانولولهکربنی کار میکند که میتواند نانولیتوگرافی با کیفیت بالا امکانپذیر کند. براساس اطلاعات منتشر شده توسط این گروه، ماسکهای حاوی نانولولهکربنی میتواند انتقال پرتو تا ۹۴ درصد را تضمین کند و مقادیر بسیار کمی از پرتوها منعکس میشوند. این ماسکهای نانویی نه تنها در برابر تابش فرابنفش شدید در لیتوگرافی شفاف هستند بلکه به طول موجهای فرابنفش عمیق که در برخی از سامانه ستمهای بازرسی و کنترل کیفیت نتایج لیتوگرافی استفاده میشود، قابل استفاده است.
